|
Descripción
|
|
|---|---|
| El proyecto pretende profundizar en el estudio de los materiales de índice de refracción positivo y sus aplicaciones a la super-resolución. El proyecto contempla el diseño de distintos sistemas de super-resolución y su aplicación específica en el campo de la fotolitografía óptica. Los resultados del proyecto podrían revolucionar el estado del arte de la fabricación de circuitos integrador, permitiendo la fabricación de dispositivos más pequeños. Los objetivos del proyecto consisten en desarrollar la tecnología de super-resolución de imágenes con guías de onda de índice de refracción positivo, para aplicaciones de fotolitografía óptica en la fabricación de semiconductores. Principalmente, se persiguen los siguientes 3 objetivos: ? Desarrollo de los conceptos de formación de imagen que proporcionan una resolución significativamente por debajo de los límites de difracción de los sistemas convencionales, sobre todo con magnificación distinta a la unidad y sobre grandes áreas. ? Diseño y fabricación de una prueba de concepto de sistemas con super-resolución basado en estos conceptos, obteniendo parámetros de funcionamiento que avancen de manera importante sobre el estado del arte. ? Aplicación de los nuevos conceptos desarrollados al diseño de una guía de ondas óptica de super-resolución para litografía o inspección de procesos litográficos. | |
|
Internacional
|
No |
|
Tipo de proyecto
|
Proyectos y convenios en convocatorias públicas competitivas |
|
Entidad financiadora
|
MINISTERIO DE CIENCIA E INNOVACIÓN |
|
Nacionalidad Entidad
|
ESPAÑA |
|
Tamaño de la entidad
|
Pequeña Empresa (11-50) |
|
Fecha concesión
|
|