|
Descripción
|
|
|---|---|
| Patente que describe un método para realizar el dopado selectivo de un semiconductor mediante un proceso de transferencia inducida por láser. | |
|
Internacional
|
No |
|
Estado
|
Solicitada |
|
Referencia Patente Prioritaria
|
P201231065 |
|
En explotación
|
No |
|
Licenciatarios
|
|
|
Fecha solicitud
|
06/06/2012 |
|
Titulares aparte de la UPM
|
UPC |