Research Publications in journals:
Study of the temperature distribution in Si nanowires under microscopic laser beam excitation
Study of the temperature distribution in Si nanowires under microscopic laser beam excitation
Year:2013
Research Areas
Information
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Abstract
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International
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Si |
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JCR
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Si |
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Title
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APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING |
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ISBN
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0947-8396 |
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Impact factor JCR
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1,63 |
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Impact info
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Volume
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113 |
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10.1007/s00339-012-7509-y |
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Journal number
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1 |
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From page
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167 |
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To page
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176 |
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Month
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Ranking
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0 |
Participants
- Autor:
Antonio Rodriguez Rodriguez (UPM) - Autor: a. rodriguez (UPM)
- Autor: j. anaya
- Autor: Ernesto Abdon Rodriguez Sanchez (UPM)
- Autor: a. torres
- Autor: t. rodriguez (UPM)
- Autor: a. martin-martin
- Autor: j. souto
- Autor: j. jimenez
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- Creador: No seleccionado
- Grupo de Investigación: Análisis e Intervención en Patrimonio Arquitectónico
- Grupo de Investigación: Grupo de Conectividad
- Departamento: Tecnología Electrónica
- Departamento: Construcción y Tecnología Arquitectónicas
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