Ponencias en congresos:
Nanostructures with Group IV nanocrystals obtained by LPCVD and annealing of SiGeO layers
Año:2008
Áreas de investigación
- Industria electrónica
Datos
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Descripción
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| Nanocrystals embedded in an oxide matrix have been fabricated by annealing SiGeO films deposited by LPCVD. The composition of the oxide layers and its evolution after annealing as well as the presence and nature of nanocrystals in the films have been studied by several experimental techniques. The results are analyzed and discussed in terms of the main deposition parameters and the annealing temperature. | |
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Internacional
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Si |
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Nombre congreso
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Materials Research Society 2008 Spring Meeting |
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Tipo de participación
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960 |
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Lugar del congreso
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San Francisco, California, EEUU |
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Revisores
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Si |
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ISBN o ISSN
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DOI
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Fecha inicio congreso
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24/03/2008 |
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Fecha fin congreso
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28/03/2008 |
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Desde la página
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2 |
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Hasta la página
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7 |
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Título de las actas
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Amorphous and Polycristalline Silicon Science and Technology 2008 |
Ver publicación en Archivo digital upm
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
- Participante: A Kling
- Participante: B. Morana
- Autor: Jesus Sangrador Garcia UPM
- Autor: Francisco J. Jimenez Leube UPM
- Participante: O. Martínez
- Autor: Andres Rodriguez Dominguez UPM
- Autor: Tomas Rodriguez Rodriguez UPM
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Creador: Departamento: Tecnología Electrónica