Descripción
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Estio mediante espectroscopía Raman de nanohilos de siliicio-germanio | |
Internacional
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Si |
Nombre congreso
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10th International Workshop on Beam Injection Assessment of Microstructures in Semiconductors |
Tipo de participación
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960 |
Lugar del congreso
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Halle (Saale), Alemania |
Revisores
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Si |
ISBN o ISSN
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1610-1642 |
DOI
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DOI 10.1002/pssc.201083990 |
Fecha inicio congreso
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04/07/2010 |
Fecha fin congreso
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07/07/2010 |
Desde la página
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1307 |
Hasta la página
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1310 |
Título de las actas
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Si and SixGe1-x NWs studied by Raman spectroscopy |