Observatorio de I+D+i UPM

Memorias de investigación
Artículos en revistas:
Growth of nickel silicide (NiSix) nanowires by silane decomposition
Año:2011
Áreas de investigación
Datos
Descripción
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
CURRENT APPLIED PHYSICS
ISSN
1567-1739
Factor de impacto JCR
1,74
Información de impacto
Volumen
11
DOI
10.1016/j.cap.2010.06.023
Número de revista
1
Desde la página
82
Hasta la página
86
Mes
Ranking
42/116 PHYSICS, APPLIED (SCI); 72/219 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY (SCI)
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
  • Autor: g. f. iriarte (UPM)
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: No seleccionado
  • Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
  • Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
  • Departamento: Ingeniería Electrónica
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