Memorias de investigación
Ponencias en congresos:
Characterization of Amorphous Tantalum Oxide for Insulating Acoustic Mirrors
Año:2011
Áreas de investigación
  • Tecnología electrónica y de las comunicaciones
Datos
Descripción
This work describes the assessment of the acoustic properties of sputtered tantalum oxide films intended as high impedance films for the acoustic isolation of bulk acoustic wave devices operating in the GHz frequency range. The films are grown by sputtering a metallic tantalum target under different oxygen and argon gas mixtures, total pressures, pulsed DC powers and substrate bias. The structural properties of the films are assessed through infrared absorption spectroscopy and Xray diffraction measurements. Their acoustic impedance is obtained after estimating the mass density by X-ray reflectometry measurements and the longitudinal acoustic velocity by analyzing the longitudinal ?/2 resonance induced in a tantalum oxide film inserted between an acoustic reflector and an AlN-based resonator. A second measurement of the sound velocity is achieved through picosecond acoustic spectroscopy.
Internacional
Si
Nombre congreso
2011 IEEE Frequency Control Symposium
Tipo de participación
960
Lugar del congreso
San Francisco, EE. UU.
Revisores
Si
ISBN o ISSN
1075-6787
DOI
10.1109/FCS.2011.5977833
Fecha inicio congreso
01/05/2011
Fecha fin congreso
05/05/2011
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Título de las actas
2011 IEEE International Frequency Control Symposium Proc.
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: Grupo de Investigación: Microsistemas y Materiales Electrónicos
  • Centro o Instituto I+D+i: Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones
  • Departamento: Tecnología Electrónica