Observatorio de I+D+i UPM

Memorias de investigación
Artículos en revistas:
High quality textured ZnO:Al surfaces obtained by a two-step wet-chemical etching method for applications in thin film silicon solar cells
Año:2011
Áreas de investigación
  • Física,
  • Fisica sb -- semiconductores y estructura de bandas
Datos
Descripción
ZnO:Al films deposited at 250 1C on Corning glass by radio frequency magnetron sputtering were studied for their use as front contact for thin film silicon solar cells. For this purpose, a two-step etching method combining different concentrations of diluted hydrochloric acid (from 0.1% to 3%) with different etching times was developed. Its influence on morphological, electrical and optical properties of the etched films was evaluated. This new etching method led to more uniform textured surfaces, where the electrical properties remained unchangeable after the etching process, and with adapted light scattering properties similar to those exhibited by commercial substrates.
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
Solar Energy Materials And Solar Cells
ISSN
0927-0248
Factor de impacto JCR
4,593
Información de impacto
Volumen
95
DOI
10.1016/j.solmat.2011.03.042
Número de revista
Desde la página
2281
Hasta la página
2286
Mes
SIN MES
Ranking
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
  • Autor: Oscar de Abril Torralba (UPM)
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: Departamento: Física e Instalaciones Aplicadas a la Edificación, al Medio Ambiente y al Urbanismo
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