Memorias de investigación
Research Publications in journals:
Ultrasensitive non-chemically amplified low-contrast negative electron beam lithography resist with dual-tone behaviour
Year:2013

Research Areas
  • Engineering,
  • Electronic technology and of the communications

Information
Abstract
Relacionado con líneas de investigación del GDS del ISOM http://www.isom.upm.es/dsemiconductores.php
International
Si
JCR
Si
Title
JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C
ISBN
2050-7526
Impact factor JCR
0
Impact info
Volume
1
10.1039/c2tc00148a
Journal number
7
From page
1392
To page
1398
Month
SIN MES
Ranking
0
Participants
  • Autor: Victor Canalejas Tejero UPM
  • Autor: sergio carrasco
  • Autor: fernando navarro-villoslada
  • Autor: jose luis garcia fierro
  • Autor: maria del carmen capel-sanchez
  • Autor: maria cruz moreno-bondi
  • Autor: Carlos Angulo Barrios UPM

Research Group, Departaments and Institutes related
  • Creador: Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
  • Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología