Memorias de investigación
Artículos en revistas:
Electrical decoupling effect on intermediate band Ti-implanted silicon layers
Año:2013

Áreas de investigación

Datos
Descripción
0
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
ISSN
0022-3727
Factor de impacto JCR
2,544
Información de impacto
Volumen
46
DOI
10.1088/0022-3727/46/13/135108
Número de revista
13
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Mes
Ranking
0

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Participantes
  • Autor: d. pastor UPM

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  • Creador: No seleccionado
  • Departamento: Ingeniería Electrónica