Memorias de investigación
Artículos en revistas:
MOCVD growth of CdO very thin films: Problems and ways of solution
Año:2016

Áreas de investigación

Datos
Descripción
0
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
APPLIED SURFACE SCIENCE
ISSN
0169-4332
Factor de impacto JCR
2,711
Información de impacto
Volumen
385
DOI
10.1016/j.apsusc.2016.05.113
Número de revista
Desde la página
209
Hasta la página
215
Mes
Ranking
0
Participantes

Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
  • Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
  • Departamento: Ingeniería Electrónica