Artículos en revistas:
MOCVD growth of CdO very thin films: Problems and ways of solution
MOCVD growth of CdO very thin films: Problems and ways of solution
Año:2016
Áreas de investigación
Datos
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Descripción
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Internacional
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Si |
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JCR del ISI
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Si |
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Título de la revista
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APPLIED SURFACE SCIENCE |
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ISSN
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0169-4332 |
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Factor de impacto JCR
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2,711 |
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Información de impacto
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Volumen
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385 |
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DOI
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10.1016/j.apsusc.2016.05.113 |
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Número de revista
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Desde la página
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209 |
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Hasta la página
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215 |
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Mes
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Ranking
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Participantes
- Autor:
julen tamayo-arriola (UPM) - Autor: adelaida huerta-barbera
- Autor: alejandro kurtz (UPM)
- Autor: lluis manel guia
- Autor: miguel montes bajo (UPM)
- Autor: oleksii klymov
- Autor: elias munoz (UPM)
- Autor: vicente marin-borras
- Autor: adrian hierro (UPM)
- Autor: carmen martinez-tomas
- Autor: vicente munoz-sanjose
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- Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
- Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
- Departamento: Ingeniería Electrónica
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