Memorias de investigación
Artículos en revistas:
Effects of high-k gate dielectrics on the electrical behavior of AlInN/GaN based diodes and HEMTs
Año:2016
Áreas de investigación
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Microelectrónica,
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Transistores de efecto de campo tipo mos (mosfet),
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Semiconductores ii-vi, iii-v y iv-iv,
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Dispositivos tipo mosfet
Datos
Descripción
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Internacional
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Esta actividad pertenece a memorias de
investigación
Participantes
- Autor:
Zhan Gao . (UPM) - Autor:
Fatima Romero Rojo (UPM) - Autor: Philipe Godignon
- Autor: Maria Angel Pampillón (UCM)
- Autor: Enruqie San Andres
- Autor: jose Millan (UAB)
- Autor:
Fernando Calle Gomez (UPM)
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Creador: Departamento: Ingeniería Electrónica