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Abstract
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| El objetivo de la presente Tesis es la fabricación de células solares de silicio utilizando pasos sencillos, repetitivos y aptos para substratos de calidad solar. Para ello se realizó la adaptación de distintos procesos utilizados en el IES-UPM con substratos de alta calidad, dando lugar a eficiencias en torno al 17% con muestras de silicio multicristalino y del 14,6% en muestras no texturadas de silicio monocristalino purificadas siguiendo la vía metalúrgica. También se introdujo el uso de capas de nitruro de silicio obtenidas mediante el método de depósito químico en fase de vapor potenciado por plasma (PECVD). Se demostró su uso como capa antirreflectante, obteniendo menores reflectividades que las alcanzadas con capas de óxido de silicio, y pasivadora de las superficies y del volumen (en el caso de utilizar muestras de silicio multicristalino), consiguiendo altos tiempos de vida al final de las tandas. | |
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International
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Si |
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Type
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Mark Rating
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Sobresaliente cum laude |
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Date
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16/10/2007 |