Memorias de investigación
Research Publications in journals:
A comprehensive diagram to grow InAlN alloys by plasma-assisted molecular beam epitaxy
Year:2008

Research Areas
  • Electronics engineering

Information
Abstract
Relacionado con las lineas de investigacion del Grupo
International
Si
JCR
Si
Title
PHYSICAL REVIEW LETTERS
ISBN
0031-9007
Impact factor JCR
6,944
Impact info
Volume
93
Journal number
0
From page
191907
To page
191909
Month
ENERO
Ranking
Participants

Research Group, Departaments and Institutes related
  • Creador: Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
  • Departamento: Ingeniería Electrónica