Artículos en revistas:
Far-infrared transmission in GaN,AlN and AlGaN thin films grown by molecular beam epitaxy
Año:2008
Áreas de investigación
- Industria electrónica
Datos
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Descripción
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| RELACIONADO CON LINEAS DE INVESTIGACION DEL GRUPO | |
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Internacional
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Si |
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JCR del ISI
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Si |
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Título de la revista
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JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
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ISSN
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0021-8979 |
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Factor de impacto JCR
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2,171 |
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Información de impacto
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Volumen
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DOI
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Número de revista
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104 |
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Desde la página
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033544 |
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Hasta la página
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033546 |
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Mes
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ENERO |
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Ranking
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Ver publicación en Archivo digital upm
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
- Autor: C.T FOXON
- Autor: J. IBAÑEZ
- Autor: R. CUSCO
- Autor: L. ARTUS
- Autor: Enrique Calleja Pardo UPM
- Autor: E ALARCON-LLADÓ
- Autor: S. HERNÁNDEZ
- Autor: S.V NOVIKOV
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Creador: Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
- Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
- Departamento: Ingeniería Electrónica