Artículos en revistas:
Chemical Vapor Deposition Model of Polysilicon in a Trichlorosilane and Hydrogen System
Año:2008
Áreas de investigación
- Materiales magnéticos
Datos
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Descripción
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Internacional
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Si |
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JCR del ISI
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Si |
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Título de la revista
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JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY |
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ISSN
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0013-4651 |
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Factor de impacto JCR
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2,483 |
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Información de impacto
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Volumen
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155 |
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DOI
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Número de revista
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6 |
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Desde la página
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D-485 |
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Hasta la página
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D-491 |
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Mes
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ENERO |
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Ranking
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Ver publicación en Archivo digital upm
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
- Autor: Gonzalo Del Coso Sanchez UPM
- Autor: Carlos del Cañizo Nadal UPM
- Autor: Antonio Luque Lopez UPM
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Creador: Grupo de Investigación: Silicio y Nuevos Conceptos para Células Solares
- Centro o Instituto I+D+i: Instituto de Energía Solar
- Departamento: Electrónica Física