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Descripción
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| Continuar con el proceso de crecimiento epitaxial sobre obleas de SiGe-ZnO de diámetro uniforme en el rango de las decenas de nanometros, crecidos en posiciones predeterminadas (fijando previamente la posición de las nanobolas de Au) y consolidar/expandir la colaboración entre los grupos participantes | |
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Internacional
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Si |
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Tipo de proyecto
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Otros tipos de proyectos |
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Entidad financiadora
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Universidad Politécnica de Madrid |
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Nacionalidad Entidad
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ESPAÑA |
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Tamaño de la entidad
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Gran Empresa (>250) |
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Fecha concesión
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18/01/2008 |