Observatorio de I+D+i UPM

Memorias de investigación
Ponencias en congresos:
SiOx as low acoustic impedance material for Bragg mirror fabrication in BAW resonators
Año:2009
Áreas de investigación
  • Industria electrónica
Datos
Descripción
In this paper we describe the procedure to sputter low acoustic impedance SiO2 films to be used as low acoustic impedance layer in Bragg mirrors for BAW resonators. The composition and structure of the material are assessed through infrared absorption spectroscopy. The acoustic properties of the films (mass density and sound velocity) are assessed through X-ray reflectometry and picosecond acoustic spectroscopy. A second measurement of the sound velocity is achieved through the analysis of the longitudinal ¿/2 resonance that appears in these silicon oxide films when used as uppermost layer of an acoustic reflector placed under an AlN-based resonator.
Internacional
Si
Nombre congreso
2009 IEEE International Frequency Control Symposium
Tipo de participación
960
Lugar del congreso
Besançon
Revisores
Si
ISBN o ISSN
1075-6787
DOI
Fecha inicio congreso
20/04/2009
Fecha fin congreso
24/04/2009
Desde la página
316
Hasta la página
321
Título de las actas
2009 IEEE International Frequency Control Symposium Proc.
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
  • Participante: E. Wegmann (Universidad Politécnica de Madrid)
  • Participante: L. Vergara (ICMM-CSIC)
  • Autor: Jimena Olivares Roza (UPM)
  • Participante: R. Aigner (TriQuint Semiconductor, USA)
  • Autor: Marta Clement Lorenzo (UPM)
  • Participante: J. Capilla (Universidad Politécnica de Madrid)
  • Autor: Enrique Iborra Grau (UPM)
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: Grupo de Investigación: Microsistemas y Materiales Electrónicos
  • Departamento: Tecnología Electrónica
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