Observatorio de I+D+i UPM

Memorias de investigación
Artículos en revistas:
G.F. IRIARTE ''The influence of the magnetron on the growth of aluminium nitride thin films deposited by reactive sputtering'' Journal of Vacuum Science and Technology A, 28(2), 193-198 (2010)
Año:2010
Áreas de investigación
  • Ingenierías,
  • Tecnología electrónica y de las comunicaciones
Datos
Descripción
Relacionado con Línea de Investigación del GDS del ISOM
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A
ISSN
0734-2101
Factor de impacto JCR
1,297
Información de impacto
Volumen
28
DOI
Número de revista
2
Desde la página
193
Hasta la página
198
Mes
FEBRERO
Ranking
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
  • Autor: Gonzalo Fuentes Iriarte (UPM)
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
  • Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
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