Proyecto de I+D+i:
Substrate nanopatterning by e-beam lithography to growth ordered arrays of III-Nitride nanodetectors: application to IR detectors, emitters, and new Solar Cells PIEF-GA-2009-253085
Substrate nanopatterning by e-beam lithography to growth ordered arrays of III-Nitride nanodetectors: application to IR detectors, emitters, and new Solar Cells PIEF-GA-2009-253085
Año:2010
Áreas de investigación
-
Ingenierías
Datos
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Descripción
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| Relacionado con línea de investigación del GDS del ISOM | |
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Internacional
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Si |
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Tipo de proyecto
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Proyectos y convenios en convocatorias públicas competitivas |
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Entidad financiadora
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UE |
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Nacionalidad Entidad
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Sin nacionalidad |
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Tamaño de la entidad
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Desconocido |
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Fecha concesión
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12/05/2010 |
Participantes
- Director: Enrique Calleja Pardo (UPM)
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Creador: Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
- Departamento: Ingeniería Electrónica
S2i 2023 Observatorio de investigación @ UPM con la colaboración del Consejo Social UPM
Cofinanciación del MINECO en el marco del Programa INNPACTO (IPT-020000-2010-22)