Memorias de investigación
Artículos en revistas:
Effect of substrate-target distance and sputtering pressure in the synthesis of AlN thin films
Año:2011

Áreas de investigación

Datos
Descripción
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
MICROSYSTEM TECHNOLOGIES-MICRO-AND NANOSYSTEMS-INFORMATION STORAGE AND PROCESSING SYSTEMS
ISSN
0946-7076
Factor de impacto JCR
1,069
Información de impacto
Volumen
17
DOI
10.1007/s00542-010-1198-2
Número de revista
3
Desde la página
381
Hasta la página
386
Mes
Ranking
70/116 PHYSICS, APPLIED (SCI); 113/247 ENGINEERING, ELECTRICAL AND ELECTRONIC (SCI); 113/219 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY (SCI); 48/62 NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY (SCI)
Participantes

Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
  • Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
  • Departamento: Ingeniería Electrónica