Observatorio de I+D+i UPM

Memorias de investigación
Patents:
MÉTODO PARA EL DOPADO SELECTIVO DE UN SEMICONDUCTOR MEDIANTE TRANSFERENCIA INDUCIDA POR LÁSER
Year:2012
Research Areas
  • Engineering
Information
Abstract
Patente que describe un método para realizar el dopado selectivo de un semiconductor mediante un proceso de transferencia inducida por láser.
International
No
Status
Solicitada
application number
P201231065
under exploitation
No
Licensee/s
Date
06/06/2012
Owner
UPC
Participants
  • Autor: M. Colina (UPC)
  • Autor: C. Voz (UPC)
  • Autor: I. Martín (UPC)
  • Autor: R. Alcubilla (UPC)
  • Autor: Carlos Luis Molpeceres Alvarez (UPM)
  • Autor: Maria Isabel Sanchez Aniorte (UPM)
Research Group, Departaments and Institutes related
  • Creador: Grupo de Investigación: Grupo de Investigación en Ingeniería y Aplicaciones del Láser
  • Departamento: Física Aplicada a la Ingeniería Industrial
S2i 2019 Observatorio de investigación @ UPM con la colaboración del Consejo Social UPM
Cofinanciación del MINECO en el marco del Programa INNCIDE 2011 (OTR-2011-0236)
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