Observatorio de I+D+i UPM

Memorias de investigación
Research Publications in journals:
Electrical decoupling effect on intermediate band Ti-implanted silicon layers
Year:2013
Research Areas
Information
Abstract
0
International
Si
JCR
Si
Title
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
ISBN
0022-3727
Impact factor JCR
2,544
Impact info
Volume
46
10.1088/0022-3727/46/13/135108
Journal number
13
From page
0
To page
6
Month
Ranking
0
Participants
  • Autor: d. pastor (UPM)
Research Group, Departaments and Institutes related
  • Creador: No seleccionado
  • Departamento: Ingeniería Electrónica
S2i 2020 Observatorio de investigación @ UPM con la colaboración del Consejo Social UPM
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