Observatorio de I+D+i UPM

Memorias de investigación
Research Project:
CRECIMIENTO EPITAXIAL DE NANOHILOS DEL GRUPO IV-OXIDOS DEL GRUPO II SOBRE OBLEAS DE SILICIO
Year:2009
Research Areas
  • Electronics engineering
Information
Abstract
Crecimiento epitaxial de nanohilos del grupo IV-Oxidos del grupo II sobre obleas de silicio. El objetivo del proyecto es estudiar la viabilidad de crecer epitaxialmente mediante el proceso VLS (Vapor¿Liquid-Solid) nanohilos monocristalinos de silicio, germanio y aleaciones de silicio germanio de diferentes composiciones, utilizando obleas de Si monocristalinos con diferentes orientaciones ((100) y (111)) como templates. Una vez crecidos los nanohilos del grupo IV se procederá a crecer nanohilos de oxido de zinc utilizando como elemento catalizador la seminanobola de oro, existente en el extremo de los nanohilos semiconductores crecidos previamente. Es un proyecto cooperativo entre la Universidad Politécnica y las Universidades de Tucumán (Argentina) y de Sao Paulo (Brasil), subvencionado por la Universidad Politécnica de Madrid
International
Si
Project type
Proyectos y convenios en convocatorias públicas competitivas
Company
Universidad Politécnica de Madrid
Entity Nationality
ESPAÑA
Entity size
Mediana Empresa (51-250)
Granting date
01/01/2009
Participants
  • Director: Tomas Rodriguez Rodriguez (UPM)
Research Group, Departaments and Institutes related
  • Creador: Departamento: Tecnología Electrónica
S2i 2020 Observatorio de investigación @ UPM con la colaboración del Consejo Social UPM
Cofinanciación del MINECO en el marco del Programa INNCIDE 2011 (OTR-2011-0236)
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