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Descripción
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| Crecimiento epitaxial de nanohilos del grupo IV-Oxidos del grupo II sobre obleas de silicio. El objetivo del proyecto es estudiar la viabilidad de crecer epitaxialmente mediante el proceso VLS (Vapor¿Liquid-Solid) nanohilos monocristalinos de silicio, germanio y aleaciones de silicio germanio de diferentes composiciones, utilizando obleas de Si monocristalinos con diferentes orientaciones ((100) y (111)) como templates. Una vez crecidos los nanohilos del grupo IV se procederá a crecer nanohilos de oxido de zinc utilizando como elemento catalizador la seminanobola de oro, existente en el extremo de los nanohilos semiconductores crecidos previamente. Es un proyecto cooperativo entre la Universidad Politécnica y las Universidades de Tucumán (Argentina) y de Sao Paulo (Brasil), subvencionado por la Universidad Politécnica de Madrid | |
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Internacional
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Si |
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Tipo de proyecto
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Proyectos y convenios en convocatorias públicas competitivas |
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Entidad financiadora
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Universidad Politécnica de Madrid |
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Nacionalidad Entidad
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ESPAÑA |
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Tamaño de la entidad
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Mediana Empresa (51-250) |
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Fecha concesión
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01/01/2009 |