Memorias de investigación
Artículos en revistas:
Porous silicon oxide sacrificial layers deposited by pulsed-direct current magnetron sputtering for microelectromechanical systems
Año:2010

Áreas de investigación

Datos
Descripción
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
THIN SOLID FILMS
ISSN
0040-6090
Factor de impacto JCR
1,909
Información de impacto
Volumen
518
DOI
10.1016/j.tsf.2010.03.013
Número de revista
18
Desde la página
5128
Hasta la página
5133
Mes
SIN MES
Ranking

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Participantes

Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: No seleccionado
  • Grupo de Investigación: Microsistemas y Materiales Electrónicos
  • Departamento: Tecnología Electrónica