Memorias de investigación
Ponencias en congresos:
Studying the damage kinetics in silicon dioxide by optical reflectance (Poster)
Año:2013

Áreas de investigación
  • Ingenierías

Datos
Descripción
Silicon dioxide (SiO2) is an important dielectric material with a very wide transparency range and many applications in fields like photonics and microelectronics [1]. It may be found in either an amorphous (silica) or a crystalline (?-quartz) phase. The study of defects created by irradiation in SiO2 is relevant for nuclear (both fusion and fission) facilities [2] and space applications [3,4]. Hence, it is not surprising that several techniques like infrared spectroscopy, spectroscopic ellipsometry and RBS/C (in ?-quartz) have been used to study the irradiation damage. In this work we have used in-situ optical reflectance to obtain detailed information about the damage kinetics.
Internacional
Si
Nombre congreso
17th International Conference On Radiation Effects In Insulators (REI-17)
Tipo de participación
960
Lugar del congreso
Helsinki, Finlandia
Revisores
Si
ISBN o ISSN
0000-0000
DOI
Fecha inicio congreso
30/06/2013
Fecha fin congreso
05/07/2013
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Título de las actas
Proceedings

Esta actividad pertenece a memorias de investigación

Participantes
  • Autor: Antonio Juan Rivera de Mena UPM
  • Autor: M.L: Crespillo Centro de Microanálisis de Materiales, Universidad Autónoma de Madrid
  • Autor: J. Olivares Centro de Microanálisis de Materiales, Universidad Autónoma de Madrid
  • Autor: F. Agulló-López Centro de Microanálisis de Materiales, Universidad Autónoma de Madrid

Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: Grupo de Investigación: Fusión Nuclear Inercial y Tecnología de fusión
  • Centro o Instituto I+D+i: Instituto de Fusión Nuclear
  • Departamento: Ingeniería Nuclear