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Cross-linkable linear copolymer with double functionality: resist for electron beam nanolithography and molecular imprinting
Cross-linkable linear copolymer with double functionality: resist for electron beam nanolithography and molecular imprinting
Año:2014
Áreas de investigación
Datos
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Descripción
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Internacional
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Si |
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JCR del ISI
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Si |
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Título de la revista
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JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C |
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ISSN
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2050-7526 |
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Factor de impacto JCR
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0 |
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Información de impacto
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Volumen
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2 |
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DOI
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10.1039/c3tc31499e |
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Número de revista
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8 |
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Desde la página
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1400 |
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Hasta la página
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1403 |
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Mes
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Ranking
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0 |
Participantes
- Autor:
v. canalejas-tejero (UPM) - Autor: s. carrasco
- Autor: c. a. barrios (UPM)
- Autor: f. navarro-villoslada
- Autor: m. c. moreno-bondi
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Creador: No seleccionado
- Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
- Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
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