Observatorio de I+D+i UPM

Memorias de investigación
Artículos en revistas:
Cross-linkable linear copolymer with double functionality: resist for electron beam nanolithography and molecular imprinting
Año:2014
Áreas de investigación
Datos
Descripción
0
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C
ISSN
2050-7526
Factor de impacto JCR
0
Información de impacto
Volumen
2
DOI
10.1039/c3tc31499e
Número de revista
8
Desde la página
1400
Hasta la página
1403
Mes
Ranking
0
Esta actividad pertenece a memorias de investigación
Participantes
  • Autor: v. canalejas-tejero (UPM)
  • Autor: s. carrasco
  • Autor: c. a. barrios (UPM)
  • Autor: f. navarro-villoslada
  • Autor: m. c. moreno-bondi
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: No seleccionado
  • Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
  • Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
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