Memorias de investigación
Artículos en revistas:
Morphology of SiO2 films as a key factor in alignment of liquid crystals with negative dielectric anisotropy
Año:2016

Áreas de investigación

Datos
Descripción
0
Internacional
Si
JCR del ISI
Si
Título de la revista
BEILSTEIN JOURNAL OF NANOTECHNOLOGY
ISSN
2190-4286
Factor de impacto JCR
2,67
Información de impacto
Volumen
7
DOI
10.3762/bjnano.7.167
Número de revista
Desde la página
1743
Hasta la página
1748
Mes
Ranking
0

Esta actividad pertenece a memorias de investigación

Participantes
  • Autor: eva oton UPM
  • Autor: volodymyr tkachenko
  • Autor: jose manuel oton UPM
  • Autor: antigone marino
  • Autor: noureddine bennis

Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
  • Creador: No seleccionado
  • Grupo de Investigación: Grupo de Fotónica Aplicada
  • Centro o Instituto I+D+i: Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones
  • Departamento: Tecnología Fotónica y Bioingeniería