Artículos en revistas:
Morphology of SiO2 films as a key factor in alignment of liquid crystals with negative dielectric anisotropy
Morphology of SiO2 films as a key factor in alignment of liquid crystals with negative dielectric anisotropy
Año:2016
Áreas de investigación
Datos
|
Descripción
|
|
|---|---|
| 0 | |
|
Internacional
|
Si |
|
JCR del ISI
|
Si |
|
Título de la revista
|
BEILSTEIN JOURNAL OF NANOTECHNOLOGY |
|
ISSN
|
2190-4286 |
|
Factor de impacto JCR
|
2,67 |
|
Información de impacto
|
|
|
Volumen
|
7 |
|
DOI
|
10.3762/bjnano.7.167 |
|
Número de revista
|
|
|
Desde la página
|
1743 |
|
Hasta la página
|
1748 |
|
Mes
|
|
|
Ranking
|
0 |
Participantes
- Autor:
eva oton (UPM) - Autor: volodymyr tkachenko
- Autor: jose manuel oton (UPM)
- Autor: antigone marino
- Autor: noureddine bennis
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Creador: No seleccionado
- Grupo de Investigación: Grupo de Fotónica Aplicada
- Centro o Instituto I+D+i: Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones
- Departamento: Tecnología Fotónica y Bioingeniería
S2i 2023 Observatorio de investigación @ UPM con la colaboración del Consejo Social UPM
Cofinanciación del MINECO en el marco del Programa INNPACTO (IPT-020000-2010-22)