Observatorio de I+D+i UPM

Descripción
¿A new approach for laser monolithic interconnection has been stated with the evaluation of each step ¿For the first step it has been demonstrated that the process has been improved compared with the currently performed ¿The possibility to carry out the P2 and P3 process from the film side has been established as a potential industrial configuration with new laser sources. ¿We¿ve shown a new method to characterize the heat affected zone, focused on the P2 process and the damage assessment of the silicon structure.
Internacional	Si
Nombre congreso	3RD INTERNATIONAL CONFERENCE ON SURFACES, COATINGS AND NANOSTRUCTURES MATERIALS. NANOSMAT 2008
Tipo de participación	960
Lugar del congreso	BARCELONA
Revisores	Si
ISBN o ISSN	0000000000
DOI
Fecha inicio congreso	21/10/2008
Fecha fin congreso	24/10/2008
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Título de las actas	PRESENTACIÓN

Esta actividad pertenece a memorias de investigación

• AUTOR: I. SÁNCHEZ-ANIORTE (CENTRO LÁSER UPM)
• AUTOR: J. BERTOMEU (CeRMAE-Dept. Física Aplicada i Òptica, Universitat de Barcelona)
• Autor: Carlos Luis Molpeceres Alvarez (UPM)
• Autor: Sara Lauzurica Santiago (UPM)
• Autor: Jose Luis Ocaña Moreno (UPM)
• AUTOR: J.J. GANDÍA (CIEMAT)
• Autor: Juan José García-Ballesteros . (UPM)
• Autor: Mónica Colina Brito (UPM)
• Autor: Miguel Holgado Bolaños (UPM)

• Creador: Grupo de Investigación: Ingeniería y Aplicaciones del Láser
• Centro o Instituto I+D+i: Centro Laser
• Departamento: Física Aplicada a la Ingeniería Industrial
• Departamento: Automática, Ingeniería Electrónica e Informática Industrial