Memorias de investigación
Research Publications in journals:
A comprehensive diagram to grow InAlN alloys by plasma-assisted molecular beam epitaxy
Year:2008

Research Areas
  • Electronics engineering

Information
Abstract
Relacionado con línea de investigación del grupo
International
Si
JCR
Si
Title
APPLIED PHYSICS LETTERS
ISBN
0003-6951
Impact factor JCR
3,596
Impact info
Volume
93
10.1063/1.3026541
Journal number
19
From page
191907
To page
191907-3
Month
ENERO
Ranking
Participants

Research Group, Departaments and Institutes related
  • Creador: Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
  • Departamento: Ingeniería Electrónica