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High aspect-ratio SU-8 resist nano-pillar lattice by e-beam direct writing and its application for liquid trapping
High aspect-ratio SU-8 resist nano-pillar lattice by e-beam direct writing and its application for liquid trapping
Año:2010
Áreas de investigación
Datos
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Descripción
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Internacional
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Si |
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JCR del ISI
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Si |
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Título de la revista
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MICROELECTRONIC ENGINEERING |
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ISSN
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0167-9317 |
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Factor de impacto JCR
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1,569 |
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Información de impacto
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Volumen
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87 |
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DOI
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10.1016/j.mee.2009.09.007 |
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Número de revista
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4 |
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Desde la página
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663 |
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Hasta la página
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667 |
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Mes
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SIN MES |
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Ranking
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Participantes
- Autor:
d. lopez-romero (UPM) - Autor: c. a. barrios (UPM)
- Autor: m. holgado (UPM)
- Autor: m. f. laguna (UPM)
- Autor: r. casquel (UPM)
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Creador: No seleccionado
- Grupo de Investigación: Ingeniería y Aplicaciones del Láser
- Departamento: Física Aplicada a la Ingeniería Industrial
- Centro o Instituto I+D+i: Centro Laser
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