Artículos en revistas:
Porous silicon oxide sacrificial layers deposited by pulsed-direct current magnetron sputtering for microelectromechanical systems
Porous silicon oxide sacrificial layers deposited by pulsed-direct current magnetron sputtering for microelectromechanical systems
Año:2010
Áreas de investigación
Datos
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Descripción
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Internacional
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Si |
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JCR del ISI
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Si |
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Título de la revista
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THIN SOLID FILMS |
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ISSN
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0040-6090 |
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Factor de impacto JCR
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1,909 |
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Información de impacto
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Volumen
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518 |
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DOI
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10.1016/j.tsf.2010.03.013 |
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Número de revista
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18 |
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Desde la página
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5128 |
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Hasta la página
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5133 |
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Mes
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SIN MES |
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Ranking
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Participantes
- Autor:
j. olivares (UPM) - Autor: m. clement (UPM)
- Autor: s. gonzalez-castilla (UPM)
- Autor: vergara, l. .
- Autor: e. iborra (UPM)
- Autor: j. sangrador (UPM)
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- Creador: No seleccionado
- Grupo de Investigación: Microsistemas y Materiales Electrónicos
- Departamento: Tecnología Electrónica
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