Artículos en revistas:
Influence of substrate crystallography on the room temperature synthesis of AlN thin films by reactive sputtering
Influence of substrate crystallography on the room temperature synthesis of AlN thin films by reactive sputtering
Año:2011
Áreas de investigación
Datos
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Descripción
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Internacional
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Si |
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JCR del ISI
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Si |
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Título de la revista
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APPLIED SURFACE SCIENCE |
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ISSN
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0169-4332 |
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Factor de impacto JCR
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1,793 |
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Información de impacto
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Volumen
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257 |
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DOI
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10.1016/j.apsusc.2011.05.025 |
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Número de revista
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22 |
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Desde la página
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9306 |
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Hasta la página
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9313 |
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Mes
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Ranking
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40/116 PHYSICS, APPLIED (SCI); 26/67 PHYSICS, CONDENSED MATTER (SCI); 7/18 MATERIALS SCIENCE, COATINGS AND FILMS (SCI); 75/125 CHEMISTRY, PHYSICAL (SCI) |
Participantes
- Autor:
g. f. iriarte (UPM) - Autor: d. f. reyes
- Autor: d. gonzalez
- Autor: j. g. rodriguez (UPM)
- Autor: r. garcia
- Autor: f. calle (UPM)
Grupos de investigación, Departamentos, Centros e Institutos de I+D+i relacionados
- Grupo de Investigación: Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM
- Centro o Instituto I+D+i: Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología
- Departamento: Ingeniería Electrónica
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