Ficha
High vacuum physical vapor deposition, (Telstar)
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, B08 / Cámara Limpia
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Depósito por evaporación física (PVD)
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
Telstar es un evaporador de depósito por vapor físico que permite trabajar para la deposición de materiales por efecto Joule o por E-Beam. Sistema dotado de control de ratio de depósito, tipo de material, tooling factor y densidad del mismo. Barrido por haz de electrones para el E-Beam, calefactor integrado.
Depósito de materiales de capa delgada, diseño y fabricación de dispositivos FBAR, MEMS, SAW, así como transistores de efecto de campo FET o bien de metal óxido de efecto de campo MOSFET.
Materiales disponibles en la actualidad: Al, Co, Si, Ir, Au, W, PTFE, Fe.
Línea de venteo: N2
Vacío máximo alcanzable mediante bomba turbomolecular: 5*10-5 mTorr.
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