Ficha
High vacuum sputtering, (Leybold Heraerus Z550)
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, A301L / Cámara Limpia
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Depósito por pulverización catódica (Sputtering)
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
Z550 es un sputtering de alto vacío diseñado para poder trabajar con hasta 4 materiales conformados en cátodos de 6"; Todos ellos intercambiables por otros materiales según las necesidades de las aplicaciones. Se trata de un sistema para la depósito de materiales por pulverización catódica.
Depósito de materiales de capa delgada, diseño y fabricación de dispositivos FBAR, SAW, MEMS así como transistores de efecto de campo FET o bien de metal óxido de efecto de campo MOSFET.
Materiales disponibles en la actualidad: Al, Co, Mo, Si, Ta, Ti, W.
Generación de plasma mediante: N2, O2, Ar.
Vacío máximo alcanzable mediante bomba turbomolecular: 5*10-6 mTorr.
Línea de venteo: N2
Fuente de alimentación Pinnacle DC+, fuente DC pulsada hasta 5kW.
Calefactor y control de temperatura incorporado.
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Climate, Energy and Mobility
