Ficha
ICTS 2023 Sistema de deposición química de vapor CVD
Dónde:
Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología (ISOM)
Ubicación:
Laboratorio del ISOM en la ETSITelecomunicación, Avda complutense 30, 28040 Madridi
Tipología:
Infraestructura Científica y Técnica Singular (ICTS)
Responsable: Manuel Abuin
Correo electrónico:
Sistema de depósito químico en fase vapor CVD: Modelo PlasmaPro 100 ICPCVD empresa Oxford Instruments. Este equipamiento es parte de la ayuda ICTS-MRR-2023-07-UPM, financiada por Ministerio de Ciencia, Innovación y Universidades y por la Unión Europea NextGenerationEU/PRTR. Plan de Recuperación, Transformación y Resiliencia - Financiado por la Unión Europea NextGenerationEU.
Semiconductores, Nanotecnología
Este sistema CVD permite depositar sobre un substrato capas de 10 nm a 300 nm de materiales dieléctricos y aislantes. Se puede depositar silicio amorfo, óxido de silicio, nitruro de silicio.
Proyectos de investigación en el ISOM y proyectos de ICTS
nanotecnología
