Ficha
ICTS 2023 Sistema de litografia por nanoimpresión NANOIMPRINT
Dónde:
Instituto Universitario de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología (ISOM)
Ubicación:
Laboratorio del ISOM en la ETSITelecomunicación, Avda complutense 30, 28040 Madridi
Tipología:
Infraestructura Científica y Técnica Singular (ICTS)
Responsable: Manuel Abuin
Correo electrónico:
Sistema de Nanoimpresión. Modelo Eitre 3 marca Obducat. Permite transferir los motivos de un sello sobre una resina con una precisión nanométrica. Resolución 100 nm. Este equipamiento es parte de la ayuda ICTS-MRR-2023-07-UPM, financiada por Ministerio de Ciencia, Innovación y Universidades y por la Unión Europea NextGenerationEU/PRTR. Plan de Recuperación, Transformación y Resiliencia - Financiado por la Unión Europea NextGenerationEU.
Nanotecnología, semiconductores, litografia.
Sirve para realizar impresión de motivos nanométricos que existen sobre un selllo sobre resinas depositadas en substratos planos. Se basa en la temperatura y la presión para realzar esa impresión nanometrica
Proyectos de Investigación en el ISOM y proyectos de ICTS
Nanotecnologia
