Ficha
Horno de alta temperatura Lindberg 54S977M 1200
Dónde:
Centro de Materiales y Dispositivos Avanzados para Tecnologías de Información y Comunicaciones (CEMDATIC)
Ubicación:
ETSI de Telecomunicación, A301L / Cámara Limpia
Tipología:
Equipamiento científico-Tecnológico
Responsable: Ricardo Hervás García
Correo electrónico:
Horno de flujo continuo para tratamientos térmicos de hasta 1200ºC
Microtecnología, Nanotecnología, Microelectrónica, Fotónica
Horno programable para tratamiento térmicos de sustratos a altas temperaturas
Temperatura máxima: 1,200 ºC (2,192 ºF, 1,473 ºK).
Número de control de zonas independientes : 3
Termopares tipo K.
Dimensiones del tubo: Diámetro aproximado021225: 9.00 in (22.86 cm), Largo: 36.00 in (91.44 cm).
Potencia estimada: 22,500 W.
Gases disponibles para diferentes procesos de oxidación/crecimiento: O2, Ar, N2.
Oxidación seca y húmeda de obleas de Si.
Nitridación de obleas de silicio
Procesos de activación de impurezas post-implantación
Aleación de contactos óhmicos
Digital, Industria and espacio
Salud
Medioambiente
Energía y movilidad
