Universidad
Politécnica de Madrid

El curso pretende proporcionar a los estudiantes conocimiento y destreza en las técnicas de caracterización básicas de un semiconductor. Las técnicas de caracterización relacionadas con la estructura cristalina (XRD, PL, CL, Raman) aportan la información necesaria para determinar la densidad de defectos e impurezas en las muestras y evaluar así la calidad cristalina del material. En cuanto a las técnicas de microscopía (AFM, SEM), proporcionarán la información necesaria sobre el perfil topográfico de la superficie para poder realizar los dispositivos diseñados. Así mismo, se proporcionará conocimiento y destreza en las técnicas de caracterización optoelectrónica de dispositivos ya fabricados mediante diferentes técnicas. Las técnicas de caracterización de diferentes dispositivos incluyen aquellas propiamente relacionadas con dispositivos concretos: células solares, LEDs, láseres, transistores, etc.

Caracterización de materiales:

• Difracción mediante rayos X (XRD)
• Microscopía electrónica de barrido (SEM)
• Microscopía de Fuerzas Atómicas (AFM)
• Fotoluminiscencia (PL)
• Espectroscopía Raman

Caracterización de dispositivos:

• Medidas de Electroluminiscencia
• Medidas de Fotocorriente
• Análisis de la transmitancia y la reflectancia en el infrarrojo, ultravioleta y visible.
• Medidas de transporte (corriente-tensión, capacidad-tensión)