Posgrados propios de la UPM (Microcredenciales)
TÉCNICAS DE LITOGRAFÍA EN SEMICONDUCTORES
| Web | https://blogs.upm.es/catedrachip/ |
|---|---|
| Impartición | 16 de febrero de 2026 - 27 de mayo de 2026 |
| Inscripción | 12 de agosto de 2025 - 10 de febrero de 2026 |
| Matriculación | 15 de julio de 2025 - 20 de febrero de 2026 |
| Créditos | 6 ECTS |
| Plazas | 20 |
| Matrícula |
€
Observaciones: 100% gratuito. Coste financiado por Cátedra UPM-INDRA en Microelectrónica. |
| Modalidad | - Presencial |
| Titulación Requerida | Titulación Universitaria(Licenciado, Ingeniero, Arquitecto, Ingeniero Técnico, Arquitecto Técnico, Diplomado) |
| Objetivos | Estudio de técnicas de litografía utilizadas en el desarrollo de fabricación de dispositivos. El curso permitirá al alumno obtener una comprensión básica de cómo se realizan las estructuras integradas a nano-escala. Se adquirirá experiencia de primera mano con los procesos modernos de nano-fabricación. Además, los alumnos obtendrán competencias en el diseño de máscaras para litografía y manejo de software específico para EBL o NFL. |
| Programa | 1) Introducción a la litografía
2) Litografía óptica 3) Litografía por haz de electrones (e-beam lithography, EBL) 4) Preparación de máscaras para litografía óptica 5) NanoFrazor Lithography (NFL) 6) Software de diseño de máscaras. 7) Software de cálculo de dosis basado en simulaciones Montecarlo y diseño de campos de escritura: BEAMER y TRACER |
| comunidad.microelectronica |-O-| upm.es | |
| Centro Organizador | E.T.S. DE INGENIEROS DE TELECOMUNICACION |