Posgrados propios de la UPM (Microcredenciales)

TÉCNICAS DE LITOGRAFÍA EN SEMICONDUCTORES

Web https://blogs.upm.es/catedrachip/
Impartición 15 de febrero de 2027 - 26 de mayo de 2027
Inscripción 25 de junio de 2026 - 16 de febrero de 2027
Matriculación 20 de julio de 2026 - 28 de febrero de 2027
Créditos 6 ECTS
Plazas 20
Matrícula €
Observaciones: 100% gratuito. Coste financiado por Cátedra UPM-INDRA en Microelectrónica.
Modalidad - Presencial
Titulación Requerida Titulación Universitaria(Licenciado, Ingeniero, Arquitecto, Ingeniero Técnico, Arquitecto Técnico, Diplomado)
Objetivos

Estudio de técnicas de litografía utilizadas en el desarrollo de fabricación de dispositivos. El curso permitirá al alumno obtener una comprensión básica de cómo se realizan las estructuras integradas a nano-escala. Se adquirirá experiencia de primera mano con los procesos modernos de nano-fabricación. Además, los alumnos obtendrán competencias en el diseño de máscaras para litografía y manejo de software específico para EBL o NFL.
Programa

1) Introducción a la litografía

  • Tipos de litografía
  • Tipos de Resinas
  • Ataques y gases específicos para los mismos

2) Litografía óptica

3) Litografía por haz de electrones (e-beam lithography, EBL)

4) Preparación de máscaras para litografía óptica

5) NanoFrazor Lithography (NFL)

6) Software de diseño de máscaras.

7) Software de cálculo de dosis basado en simulaciones Montecarlo y diseño de campos de escritura: BEAMER y TRACER
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Centro Organizador E.T.S. DE INGENIEROS DE TELECOMUNICACION
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