Diseño de máscaras litográficas
Sistema CAD para diseñar cualquier tipo de máscara para litografía óptica. Este diseño se transfiere sobre un vidreo cubierto con cobre mediante litografia por haz de electrones.
Descripción de los servicios que se ofrecen
-Fabricación de todo tipo de máscara de litografia óptica con los motivos seleccionados por el cliente.
-Formación en el diseño CAD de máscaras para equipos de litografía óptica.
Necesidades demandadas y aplicaciones
Este sistema de prototipado permite realizar en pocas horas una máscara de litografia óptica con alta resolución y adaptada a las necesidades del cliente
Sector o área de aplicación
Electrónica, nanotecnología, óptica y optoelectrónica
Competencias diferenciales
El equipo de litografia por haz de electrones del ISOM, permite realizar motivos de muy pocos nanometros que posteriormente se transfieren a las máscaras de litografia óptica. La resolución que se obtienen mediante este método de fabricación es muy superior a los sistemas de litografía laser.
Referencias previas de prestación
Dónde se ubica
ISOM. E.T.S.I.Telecomunicaciones
